真空镀膜设备主要由真空室、真空泵系统、蒸发源或溅射源、基材支架和旋转机构、电源和控制系统、气体供应系统、冷却系统、监测和检测系统等组成。这些组件的有效配合使得真空镀膜设备能够精确控制薄膜的厚度、成分和结构，从而满足各种工业和科研需求。
真空主体——真空腔 是镀膜设备的核心部分，它的大小根据加工产品的要求而有所不同，常见的有直径1.3M、0.9M、1.5M、1.8M等。真空腔通常由不锈钢材料制成，以确保其耐用性和密封性。腔体内部装有连接阀，用于连接各种抽气泵浦，确保真空环境的建立。
辅助抽气系统 是实现高真空度的关键，一般由“扩散泵+机械泵＋罗茨泵＋低温冷阱＋polycold”组成。机械泵作为前级泵，负责将真空腔抽至低真空状态，为后续的扩散泵工作提供条件。扩散泵进一步将真空度提升至高真空范围。罗茨泵作为增压泵，提高进气口和排气口之间的压差，从而增强抽气效果。
真空计 是检测和监控真空度的重要工具，分为绝对真空计和相对真空计。电阻真空计（皮喇尼真空计）和磁控放电真空计是镀膜机上常用的真空计，它们可以准确测量压强的高低，确保镀膜过程中真空度的稳定性。
蒸发系统 是成膜的关键部分，包括电阻加热、电子枪蒸发、磁控溅射、射频溅射、离子镀等多种方式。电阻蒸发因其操作简便、成本低廉而被广泛应用，但蒸发出的薄膜致密性可能不佳。电子枪蒸发则可以蒸发任何材料，具有蒸发速度快、材料利用率高、膜层质量好等优点。
成膜控制系统 负责监控和调整整个镀膜过程，确保薄膜的均匀性和质量。这通常涉及到对蒸发源的控制、基片的旋转和温度控制等，以实现薄膜的最佳生长条件。
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